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產(chǎn)品展示

高純銅靶

產(chǎn)品編號(hào)：Cu-target

產(chǎn)品簡(jiǎn)介： 主要應(yīng)用于鍍制反射薄膜，膜層附著性好，蒸發(fā)速率高，質(zhì)量達(dá)到國(guó)際最先進(jìn)水平。公司可根據(jù)客戶(hù)需求生產(chǎn)各種級(jí)別的產(chǎn)品。

可定制靶材規(guī)格：圓靶（圓弧靶）（直徑<1000mm，厚度>1mm），板靶(長(zhǎng)*寬*高不限），

管靶（外直徑<420mm,壁厚>6mm,長(zhǎng)度<6000mm）

材料純度：>99.995%

金屬雜質(zhì)含量：（Al/Fe/Ca/Mg/Co/Ni/Cr/Mn/Ti/Na/K//P/W/Mo/Zn/Sn）：<10ppm

平整度（TIR）:<20μm

局部平整度（STIR）:<10μm

翹曲度（Warp）:<50μm

上一個(gè)：高純鉻靶下一個(gè)：高純不銹鋼靶

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